电子级过氧化氢

电子级过氧化氢


产品标准:Q/JX 001-2015

序号 项目 指标
HHP-Ⅰ HHP-Ⅱ HHP-Ⅲ HHP-Ⅳ

1

含量(%)≥

30,35

30,35

30,35

30,35

2

稳定度,%≥

98

98

98

98

3

不挥发物,ppm ≤

30

20

20

10

4

酸度/以H2SO4计,ppm ≤

50

30

30

30

5

总有机碳(TOC),ppm,≤

50

40

20

10

6

pH值

1-4

2-4

2-4

2-4

7

氯化物(Cl),ppb,≤

500

500

200

200

8

硫酸盐(SO4),ppb,≤

2000

2000

200

200

9

磷酸盐(PO4),ppb,≤

2000

2000

-

-

10

砷(As),ppb,≤

50

20

5

1

11

铅(Pb),ppb,≤

50

50

10

1

12

锡(Sn),ppb,≤

50

50

10

1

13

铁(Fe),ppb,≤

100

100

10

1

14

铜(Cu),ppb,≤

20

20

10

1

15

镍(Ni),ppb,≤

50

10

10

1

16

锰(Mn),ppb,≤

50

50

10

1

17

铬(Cr),ppb,≤

20

20

10

1

18

铝(Al),ppb,≤

500

100

10

1

19

镉(Cd),ppb,≤

50

50

10

1

20

钛(Ti),ppb,≤

100

50

10

1

21

锌(Zn),ppb,≤

100

50

10

1

22

锑(Sb),ppb,≤

20

20

5

1

23

钠(Na),ppb,≤

500

100

10

1

24

钾(K),ppb,≤

200

100

10

1

25

钙(Ca),ppb,≤

200

100

10

1

26

镁(Mg),ppb,≤

100

50

10

1

27

颗粒数/mL ≤

≥1μm,≤25

≥0.5μm,≤25

≥0.5μm,≤25

≥0.5μm,≤25

超净高纯电子级过氧化氢是微电子行业中一种十分重要的高纯试剂,主要用作半导体硅晶片清洗剂,蚀刻剂和光刻胶去除剂,还可用于高级绝缘层制取,电镀液无机杂质去除,电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理,以及太阳能硅晶片的蚀刻和清洗。在处理过程中,试剂中的杂质会对元器件性能产生致命影响,因此,超净高纯过氧化氢对纯度的要求非常苛刻。


 包装

根据客户需求,产品有聚乙烯桶、吨槽、槽罐车等多种包装。
注:基于特殊的化学性质,过氧化氢的包装须使用有排气孔的容器。

           

 桶装:200L/桶                                       吨桶:1000 kg/槽                                           槽罐车:30吨/车  

 运输

本品按氧化剂运输规则运输,防止剧烈振摇;
请勿直接用手接触,操作应配戴塑胶手套;
若不慎接触或包装发生泄漏,请用大量水冲净。

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